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產品名稱: YQDH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機
產品型號: YQDH-500JJC
產品展商: ghitest
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簡單介紹
該鍍膜機主要用于科研實驗，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
YQDH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機
的詳細介紹
產品簡介
該鍍膜機主要用于科研實驗，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
該鍍膜機為前開門式設計，功能強，鍍膜穩定，重復性好，操作簡便。真空室材料均采用優良材SUS304不繡鋼材料制造，規范，**，了材料的成膜*度。
采用分子泵+直聯機械泵機組，具有抽速快，*油，操作方便快捷，易于維護的特點。
1 鍍膜方式：可實現多靶共濺模式
2 磁控靶：圓柱/平面靶；
3 進氣系統：三路流量計；
4 鍍膜室體積：500×500×600mm3
5 限真空度：6.7×10-5Pa; 恢復真空度：從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞
6 真空抽氣系統：機械泵與分子泵組成；
7 真空測量系統：數顯復合真空計；
8 工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞；加熱控溫電源；
9 工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調﹝PID控溫﹞；
10 選配件：石英晶振測厚儀，冷卻水機組等；
11 供電電源：三相AC380V，50Hz